光学抗反射电泳涂层的消光原理及应用

抗反射电泳涂层的消光原理

抗反射电泳涂层是利用电场驱动带电胶体颗粒在基材表面进行均匀沉积的。从肉眼上看，电沉积固化后的漆膜，外观平整且光滑。但从微观层面来看，电泳涂层表面是致密多孔的结构。当光线照射到漆膜表面时，一部分光线会在这些微观粗糙的表面发生散射。这种散射会使原本沿特定方向传播的光线向多个方向分散开来，从而减少反射光的强度。

不过这少不了特定色浆和电泳原漆的相互作用。色浆（颜、填料）的粒径大小、形状以及折射率与漆基体的差异等因素影响着光的传播。例如，一些具有高折射率的颜料颗粒与低折射率的漆基体之间形成折射率差，光线在这些界面处会发生折射和反射，多次折射和反射后，光线的能量被分散，从而降低了反射光的总量，以此达到抗反射及消光的目的。

光学抗反射电泳工艺的应用

不同厂家所采用的材料及工艺不同，抗反射电泳涂层的消光效果也会存在差异。就霖辉而言，抗反射电泳工艺在新能源及光学元件领域具备一定应用优势。例如在红外760nm至1000nm波长中，霖辉抗反射电泳涂层反射率可至3%及以下，具有良好的吸光性与导热及散热性。

当然，除了成膜的基本特点，电泳工艺本身也是具有明显优势的。例如生产可以标准量化，可通过调控槽液参数来控制涂层厚度和孔隙率，实现大规模生产。此外，水基型电泳液还可减少VOCs排放，生产也相对环保。不过低反射电泳工艺有着相对复杂的涂层设计，需要采用非常精准的加工过程（如生产人员管理、车间环境管理、设备精确度控制...等），才能实现很好的性能，这一方面是需要注意的。